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產(chǎn)品名稱：Plasma - RADOM
產(chǎn)品型號：RADOM
品 牌：Mira
產(chǎn) 地：Imported
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儀器簡介
RADOM (拉多姆) 是尖端等離子體技術(shù)領(lǐng)域的全球知名領(lǐng)導(dǎo)者，為分析儀器、清潔技術(shù)和制氫、固氮等行業(yè)提供可持續(xù)和創(chuàng)新的解決方案。在過去15年中，RADOM 的科學(xué)家們專注于等離子體技術(shù)的改革創(chuàng)新，開發(fā)出一種高度差異化的等離子體技術(shù)，目前已在全球多個國家和地區(qū)獲得知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)。
該技術(shù)能夠產(chǎn)生強(qiáng)大且可持續(xù)的等離子體，用于ICP-OES的突破性等離子體發(fā)生器無需水回路、冷卻器或散熱器，更有100 kW 高功率發(fā)生器選項。這種可擴(kuò)展、無電極的設(shè)計提供了卓越的效率，旨在提高安全性、降低運(yùn)營成本并減少環(huán)境污染，為大規(guī)模工業(yè)和環(huán)境應(yīng)用打開了大門。
RADOM 開發(fā)的高性能等離子體發(fā)生器，可以將空氣、N2、CO2、H2、水蒸氣等氣體加熱至等離子體狀態(tài)，溫度超過5500℃，能夠為科研實驗室提供緊湊、易用、可靠且經(jīng)濟(jì)實惠的等離子體解決方案，滿足等離子體與材料科學(xué)研究的迫切需求。廣泛應(yīng)用于材料加工、表面活化改性、滅菌、氣化、NOx可控合成、等離子體刻蝕、鍍膜與噴涂等領(lǐng)域。
主要特點
Altair 及 Mira 可用于替代 ICP-MS 的常規(guī)氬氣等離子體源，非常適合基于TOF、激光剝蝕及經(jīng)典四極桿等研究探索的質(zhì)譜實驗室，目前在全球科研機(jī)構(gòu)已有十多個成功改裝案例，涉及四種 ICP-MS 主流品牌。
■ 模塊化設(shè)計，適應(yīng)多種 ICP-MS 采樣器接口；
■ 視質(zhì)譜類型及應(yīng)用方向提供靈活的定制化服務(wù)；
■ 高度穩(wěn)定的等離子體，激發(fā)源使用壽命長；
■ 無氬環(huán)境，能夠?qū)衔镞M(jìn)行光譜分析；
■ 減少氬相關(guān)的多原子離子干擾，改善檢測結(jié)果。
Sirius 高能等離子體發(fā)生器可向170℃的過熱蒸氣提供高達(dá)100 kW的熱量，蒸氣以50-120 lb/h的流量進(jìn)入炬管。離開炬管時，蒸氣平均溫度可達(dá)3000℃，而炬管內(nèi)部的核心等離子體溫度超過6000℃。在此極端條件下，化學(xué)反應(yīng)和材料加熱過程顯著加速，典型應(yīng)用包括氣化爐中富氫合成氣的合成、PFAS及其他有毒分子的分解，以及廢棄物的玻璃化處理。
